共聚焦白光干涉輪廓儀S lynx2 應(yīng)用領(lǐng)域
Sensofar的共聚焦白光干涉輪廓儀S lynx2，憑借其非接觸、三維、可量化的測(cè)量特點(diǎn)，在多個(gè)需要對(duì)表面微觀形貌進(jìn)行分析的行業(yè)中找到了應(yīng)用場(chǎng)景。
1. 半導(dǎo)體與微電子制造：
在集成電路和微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）的制造過(guò)程中，需要對(duì)光刻膠圖形、刻蝕后的結(jié)構(gòu)、化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）后的表面、以及各種薄膜的厚度和臺(tái)階高度進(jìn)行測(cè)量。S lynx2的白光干涉模式適合測(cè)量光滑硅片上的微小臺(tái)階和薄膜厚度（通過(guò)測(cè)量臺(tái)階邊緣），而其共聚焦模式可用于檢查粗糙度較高的襯底或背面處理表面。
2. 精密加工與模具工業(yè)：
用于評(píng)估車(chē)、銑、磨、拋光等工藝加工后的工件表面質(zhì)量。可以測(cè)量表面粗糙度參數(shù)（如Sa, Sz），評(píng)估紋理方向性，檢查模具型腔的表面光潔度和微觀紋理的復(fù)制效果。對(duì)于刀具，可以測(cè)量刃口半徑和磨損形貌。
3. 汽車(chē)與航空航天部件檢測(cè)：
發(fā)動(dòng)機(jī)關(guān)鍵部件（如活塞環(huán)、缸套、渦輪葉片）的表面處理層（如涂層、鍍層）的厚度、均勻性和表面形貌是影響性能的重要因素。S lynx2可以對(duì)涂層截面或特定區(qū)域進(jìn)行三維形貌測(cè)量和粗糙度分析。此外，也可用于檢查密封面的平整度、齒輪面的磨損情況等。
4. 顯示與觸控面板行業(yè)：
用于測(cè)量液晶顯示器（LCD）或有機(jī)發(fā)光二極管（OLED）面板中的間隔物（Spacer）高度、彩色濾光片（CF）的厚度與均勻性、以及像素結(jié)構(gòu)尺寸。在觸摸屏制造中，可用于檢查ITO（氧化銦錫）導(dǎo)電薄膜的線路形貌和缺陷。
5. 材料科學(xué)與研發(fā)：
在研究新材料時(shí)，表面形貌是重要表征參數(shù)。S lynx2可用于分析金屬材料的晶粒結(jié)構(gòu)、腐蝕形貌；陶瓷材料的燒結(jié)表面與斷口；高分子材料的注塑表面、薄膜表面；復(fù)合材料的界面結(jié)合情況等。其三維數(shù)據(jù)可用于計(jì)算表面積、體積、孔隙率等參數(shù)。
6. 醫(yī)療設(shè)備與生物材料：
在醫(yī)療器械領(lǐng)域，可用于測(cè)量植入物（如人工關(guān)節(jié)、牙科種植體）的表面粗糙度和紋理，這些特征可能影響其生物相容性和骨整合能力。也可用于分析藥物涂層支架的表面涂層形貌與均勻性。
7. 學(xué)術(shù)研究與教育：
在大學(xué)和科研院所，S lynx2可作為教學(xué)工具和科研設(shè)備，用于物理、化學(xué)、材料、機(jī)械、微電子等專(zhuān)業(yè)的實(shí)驗(yàn)課程和課題研究，幫助學(xué)生和研究人員直觀地觀察和量化微觀表面結(jié)構(gòu)。
8. 質(zhì)量控制與失效分析實(shí)驗(yàn)室：
在工廠的質(zhì)檢部門(mén)或第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)，S lynx2可用于對(duì)來(lái)料、生產(chǎn)線樣品或成品進(jìn)行常規(guī)或抽樣檢驗(yàn)。當(dāng)產(chǎn)品出現(xiàn)功能失效時(shí)，可用于進(jìn)行根源分析，如檢查是否存在異常的劃痕、凹坑、凸起、尺寸偏差或涂層脫落等問(wèn)題。
9. 光學(xué)元件與薄膜工業(yè)：
可用于測(cè)量光學(xué)透鏡、反射鏡的表面面形誤差（局部起伏）、檢查增透膜等光學(xué)薄膜的表面質(zhì)量，以及測(cè)量微結(jié)構(gòu)光學(xué)元件（如衍射元件、微透鏡陣列）的三維形貌。
綜上所述，共聚焦白光干涉輪廓儀S lynx2的應(yīng)用覆蓋了從基礎(chǔ)研發(fā)到工業(yè)生產(chǎn)的多個(gè)環(huán)節(jié)。其將兩種測(cè)量技術(shù)集于一體的特點(diǎn)，為用戶(hù)在面對(duì)不同反射特性、不同粗糙度的多樣化樣品時(shí)，提供了靈活的選擇，使其成為表面計(jì)量領(lǐng)域一個(gè)值得考慮的選項(xiàng)。
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