ContourX-500布魯克環境與樣品準備要求

1. 振動控制：白光干涉測量對微振動敏感，尤其是垂直方向的振動會直接影響干涉條紋的穩定性，導致測量噪聲增大甚至失敗。建議將設備安裝在穩固的防振平臺（如氣浮隔振臺）上，并盡量遠離振源（如大型設備、走廊、門窗）。

   
   

2. 溫度穩定性：溫度波動會導致設備機械部件發生熱脹冷縮，影響掃描精度和重復性。同時，樣品本身也可能因溫度變化而變形。理想的實驗室環境應保持恒溫（如20±1°C或根據標準要求），并避免設備受陽光直射或空調出風口直吹。開機后應預熱足夠時間，使設備內部溫度達到平衡。

   
   

3. 氣流與潔凈度：強烈的空氣流動（如風扇、人員頻繁走動）可能導致局部空氣密度變化，影響光路穩定性。同時，空氣中的塵埃若落在光學元件或樣品上，會干擾測量。建議在相對潔凈、氣流平緩的環境中使用，定期清潔設備外殼和樣品臺。

   
   

4. 光照條件：強烈的環境光（尤其是閃爍的日光燈）可能會被探測器接收，干擾干涉信號。通常在暗室或關閉室內強光條件下測量效果更佳，或使用設備配套的遮光罩。

   
   

5. 電力供應：穩定的電源有助于電子系統（特別是光源和相機）穩定工作。建議使用穩壓電源或UPS，避免電壓波動和意外斷電。

   
   

1. 清潔度：樣品表面必須清潔，無灰塵、指紋、油污、水漬或其他污染物。污染物不僅會遮擋真實表面，其自身高度也會被測量進去，導致錯誤結果。通常需使用無塵布、丙酮、乙醇或專用清潔劑進行清潔，對于精密部件可能需要超聲清洗。

   
   

2. 固定與放置：樣品必須穩固地固定在樣品臺上，確保測量過程中無任何移動。對于小樣品，需使用合適的夾具或黏土；對于重或大樣品，需確保樣品臺承重足夠且平衡。樣品表面應盡可能水平放置，以減少因大傾斜帶來的測量區域損失和數據處理復雜度。

   
   

3. 反射率適應性：白光干涉需要樣品表面有足夠的反射光信號。對于高反射表面（如鏡面金屬），可能需要降低光源強度或使用偏振片來避免信號飽和。對于低反射表面（如黑色橡膠、深色陶瓷），可能需要噴涂一薄層提高反射率的材料（如金粉或白色顯像劑），但需注意這會改變原始表面形貌，僅適用于某些定性或對比測量。

   
   

4. 透明與多層樣品：對于透明材料（如玻璃、薄膜）或多層結構，來自上下界面的反射光會產生干擾信號。可能需要在其背面涂黑或使用折射率匹配液來抑制背面反射，或采用設備專門的多層膜分析模式。

   
   

5. 表面特性考量：對于非常粗糙（散射嚴重）或有大傾角/深溝槽的表面，可能會因光線無法返回探測器而導致數據缺失。可能需要嘗試使用不同數值孔徑（NA）的物鏡，或采用多角度測量策略。

   
   

6. 尺寸與形狀：確保樣品尺寸和重量在設備標稱的載物臺行程和承重范圍內。對于超出視場的大樣品，需使用軟件的拼接功能。

   
   

建立標準化的樣品準備和環境監控程序，并將其作為測量SOP（標準操作規程）的一部分，是實驗室或生產現場獲得一致、可靠測量結果的最佳實踐。花時間做好這些準備工作，往往能事半功倍，避免因環境或樣品問題導致的測量失敗或數據失真，從而ContourX-500布魯克的投資回報。

ContourX-500布魯克環境與樣品準備要求