ZYGO 測量模式解析

產品簡介

ZYGO 測量模式解析
ZYGO Nexview NX2 白光干涉儀集成了多種測量模式，以適應不同表面特性的測量需求。了解這些測量模式的工作原理、適用場景及其特點，有助于用戶根據具體樣品和測量目標選擇最合適的測量方式，從而獲得可靠的測量結果。

產品型號：Nexview NX2

更新時間：2026-01-15

廠商性質：代理商

訪問量：73

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三維光學輪廓儀

BRUKER白光干涉光學輪廓儀 SENSOFAR共聚焦白光干涉儀儀光新型共聚焦白光干涉儀 SENSOFAR 3D光學輪廓儀 SENSOFAR結構光三維輪廓儀 SENSOFAR平面度測量干涉儀 ZYGO三維光學輪廓儀

共聚焦白光干涉儀在半導體行業中的應用與挑戰

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ZYGO 測量模式解析

ZYGO Nexview NX2 白光干涉儀集成了多種測量模式，以適應不同表面特性的測量需求。了解這些測量模式的工作原理、適用場景及其特點，有助于用戶根據具體樣品和測量目標選擇最合適的測量方式，從而獲得可靠的測量結果。

設備提供的測量模式包括垂直掃描干涉模式、相移干涉模式等，每種模式都有其特定的技術特點和應用范圍。

垂直掃描干涉模式是NX2的基礎測量模式之一。該模式利用白光光源的短相干特性，通過垂直方向掃描樣品或物鏡，記錄每個像素點干涉信號強度的變化。當樣品表面某點與參考鏡的光程差為零時，該點處的干涉條紋對比度達到zui

大。通過檢測每個像素點對比度峰值對應的掃描位置，可以確定該點的表面高度。VSI模式特別適合測量具有較大高度變化范圍、中等粗糙度的表面，其垂直測量范圍可達數毫米，垂直分辨率通常在納米級別。這種模式在測量工程表面、加工零件、生物組織等方面有較好的適用性。

相移干涉模式是另一種重要的測量模式。與VSI模式不同，PSI模式使用單色光或窄帶光作為光源，通過精確控制參考鏡的位置，引入已知的相位變化，從而解算出每個像素點的相對相位信息。由于相位計算具有較高的精度，PSI模式在垂直分辨率方面通常優于VSI模式，可以達到亞納米甚至更高的水平。但相移干涉的測量范圍受相位解包裹能力的限制，一般只能測量高度變化小于半個波長的相對光滑表面。因此，PSI模式特別適合測量超光滑光學表面、精密拋光晶圓、高品質薄膜等對垂直分辨率要求ji高的應用。

在某些應用場景中，可能需要結合使用多種測量模式。例如，對于同時包含光滑區域和粗糙區域的樣品，可以在不同區域分別使用PSI模式和VSI模式進行測量，然后通過軟件將測量結果融合，以獲得整個表面的完整形貌信息。NX2的軟件平臺通常支持這種多模式測量和數據融合功能，為用戶提供了更靈活的測量策略選擇。

除了基本的干涉測量模式外，NX2還可能支持共聚焦成像模式。共聚焦模式通過空間濾波技術，可以顯著提高圖像的橫向分辨率和對比度，特別適合測量具有陡峭側壁或高深寬比的結構。在共聚焦模式下，系統通過垂直掃描獲取一系列光學切片圖像，然后通過分析每個像素點的聚焦清晰度來確定其高度位置。雖然共聚焦模式的垂直分辨率一般不及干涉模式，但其在測量復雜三維結構方面具有獨特優勢。

選擇測量模式時，需要考慮多個因素。首先是樣品表面的特性，包括粗糙度范圍、反射率、材料透明度等。對于光滑表面，PSI模式可能更為合適；對于粗糙表面，VSI模式可能獲得更好的測量結果。其次是測量目標，如果主要關注納米級的表面起伏，應優先考慮高分辨率模式；如果需要測量毫米級的高度變化，則需要選擇大測量范圍的模式。此外，測量速度、環境穩定性要求、樣品制備復雜度等也是選擇測量模式時需要考慮的因素。

在實際操作中，NX2的軟件通常提供測量模式選擇的指導。用戶可以通過預覽功能觀察樣品表面的基本情況，軟件會根據圖像特征推薦合適的測量模式和起始參數。對于有經驗的用戶，也可以根據樣品特性和測量需求，手動調整測量模式和相關參數。合理的模式選擇是獲得高質量測量數據的第yi步，需要結合理論知識和實踐經驗進行綜合考慮。

不同測量模式的數據處理方式也有所不同。VSI模式主要處理干涉信號的包絡信息，PSI模式則需要處理相位信息。在數據處理過程中，可能需要應用不同的濾波算法、去噪方法和相位解包裹技術。NX2的軟件集成了針對各種測量模式的專用數據處理模塊，能夠自動完成從原始數據到三維形貌的重建過程。用戶可以根據需要調整數據處理參數，以優化最終結果的質量。

測量模式的持續發展是光學測量技術進步的重要體現。隨著新型光學設計、先jin探測技術和智能算法的發展，測量模式在不斷豐富和完善。多模式融合測量、自適應模式選擇、智能參數優化等技術的發展，使得現代光學測量設備能夠更智能地適應多樣化的測量需求。NX2作為這個領域的代表性產品之一，其測量模式的設計和實現反映了當前技術發展的水平。

對于使用NX2的用戶來說，深入理解各種測量模式的特點和適用范圍，有助于充分發揮設備的測量能力。通過合理選擇測量模式，優化測量參數，可以針對不同類型的樣品和測量任務，獲得滿足要求的測量數據。這種能力的掌握需要通過系統的培訓、實踐經驗的積累和持續的學習來實現。

總之，ZYGO Nexview NX2提供的多種測量模式為用戶應對不同的表面測量任務提供了靈活選擇。從垂直掃描干涉到相移干涉，從單模式測量到多模式融合，設備通過技術集成和功能創新，嘗試在測量范圍、分辨率、速度和適用性之間尋求平衡。對于從事表面測量工作的技術人員和研究人員，掌握這些測量模式的原理和應用，是有效使用設備、獲得可靠數據的重要基礎。

ZYGO 測量模式解析

上一個：Nexview NX2ZYGO 在晶圓制程中的應用