為工業和材料學應用而設計

奧林巴斯正置式材料顯微鏡BX53M采用了模塊化設計，為廣泛的材料學和工業應用提供了多樣化的解決方案。BX3M增強了與奧林巴斯Stream軟件的集成性，從而為常規顯微鏡檢查和數碼成像用戶提供了從觀察到報告創建的無縫工作流程。

高級的顯微觀察 便捷的顯微操作

用戶友好性

·讓傳統技術易于操作：簡單的照明器

·直觀的顯微鏡控制：視場光闌和孔徑光闌的簡單設置

·快速找到焦點：對焦刻度標尺

·一致的照明：智能光強管理

·方便而人性化的操作

·可恢復顯微鏡設置：編碼硬件

·基本測量功能

奧林巴斯正置式材料顯微鏡BX53M功能性

·讓未見變為可見：MIX觀察

·創建超景深圖像：EFI

·輕松移動載物臺即可進行全景拍攝：即時MIA

·同時捕捉高光和暗調區域的細節：HDR

·可調整滿足觀察和分析的偏好要求

·容納各類樣品

精密的光學元件

·優良的光學性能：波像差控制

·穩定的色溫和高強度白光LED照明

·支持精密測量：自動校準

·無縫拼接：圖像陰影校正

全面可定制性

·可滿足用戶要求的各種配置

·模塊化設計，構建自己的系統

直觀的顯微鏡控制

顯微檢查任務常常需要用很長的時間來調節顯微鏡設置、獲取圖像，以及進行必要的測量，從而得到令人滿意的報告。用戶有時需要投入時間和金錢去完成專業的顯微鏡培訓，或只了解了顯微鏡全部功能的很小部分就開展工作。

奧林巴斯工業顯微鏡BX53M通過其優良的設計和便捷的控制功能，簡化了復雜的顯微檢查任務。用戶不需要長時間的培訓即可掌握顯微鏡的大多數功能。BX53M方便而舒適的操作還改善了圖像的再現性，大程度減少了人為錯誤。

讓傳統技術易于操作：簡單的照明器

照明器的設計大程度減少了顯微鏡操作過程中所必須的復雜操作。照明器前端的旋鈕使用戶能夠輕松地改變觀察方法。操作者可以在反射光顯微鏡檢查時快速切換常用的觀察方法，比如從明場觀察到暗場觀察，到偏光觀察，以隨時改變不同類型的分析。此外，可以旋轉檢偏鏡來實現簡單偏光觀察的調節。

操作者能夠在經常使用的觀察方法之間快速切換（AlSi的拋光態樣品）

直觀的顯微鏡控制：視場光闌和孔徑光闌的簡單設置

使用正確的孔徑光闌和視場光闌設置能夠獲得良好的圖像對比度，還可以充分利用物鏡的數值孔徑。指示標志可引導用戶根據觀察方法和所用物鏡進行正確的設置。

快速找到焦點：對焦刻度標尺

機架上的對焦刻度標尺可以讓操作者快速鎖定焦點。操作者不用通過目鏡查看樣品就可以大致地對準焦點，從而在檢查具有不同高度的樣品時節省了時間。

一致的照明：智能光強管理

在初始設定時，可以調節照明強度，使其與編碼照明器和/或編碼物鏡轉換器的特定硬件配置匹配。

傳統的光強

傳統顯微鏡中，提高了放大倍率，以及使用需要更多光線的觀察方法后，圖像會變得更暗。

智能光強管理

改變放大倍率或觀察方法時，顯微鏡自動調節光強到正確值。

方便而人性化的操作

人性化設計對所有用戶都至關重要。無論是單機顯微鏡用戶，還是集成了奧林巴斯Stream圖像分析軟件的顯微鏡系統用戶，都能得益于可以清晰顯示顯微鏡編碼型硬件位置的人性化操作設計的手動控制器。簡單的手動開關讓用戶能夠專注于樣品和檢查工作本身。

可恢復顯微鏡設置：編碼硬件

BX53M采用了新的編碼功能，將顯微鏡的硬件設置與奧林巴斯Stream圖像分析軟件整合在一起。觀察方法、照明強度和物鏡位置全都記錄在軟件和/或手動控制器里。編碼功能可實現顯微鏡設置與每幅圖像一起自動保存，從而可輕松完成此后的還原設置，以及為報表提供文檔記錄。既節省了操作者的時間，又大程度地減小了使用不正確設置的概率。當前的觀察設置總是清晰地顯示在手動控制器和軟件上。

針對各種檢查和分析任務的功能

BX53M保留了常規顯微鏡檢查的傳統襯度對比法，比如明場、暗場、偏光和微分干涉。隨著新材料的發展，現在可以使用的顯微鏡檢查技術來進行更精確和更可靠的檢查，從而解決了以往很多使用傳統襯度對比法檢查時遇到的缺陷檢測方面的困難。新的照明技術和奧林巴斯Stream圖像分析軟件內的圖像獲取選項為用戶提供了評估樣品、文檔記錄的更多選擇。

此外，BX53M還可用于比傳統型號更大、更重、更特殊的樣品。

MIX觀察：讓未見變為可見

BX53M的MIX觀察技術組合了明場和暗場照明方法。MIX照明滑塊中的LED光源，以定向暗場光線照射樣品。這種方式類似于傳統暗場照明，但又可為LED的不同角度光線照射提供四分象限選擇功能。這種定向暗場與明場、熒光、或偏光的組合稱為MIX照明，有助于突出顯示缺陷和區分隆起與凹陷表面。

傳統的

明場將光線直接照射在樣品上，暗場則使光線沿物鏡的周圍從側面照射樣品，突出顯示了劃痕和缺陷。

MIX

MIX觀察是通過一個環形LED光源來形成明場、熒光或偏光與定向暗場的組合。可以調節LED光源，選擇從哪個方向進行照明。該方法可在傳統方法無法觀察的表面上獲得對比度并可突出表面特征。

即時MIA：輕松移動載物臺即可進行全景拍攝

現在不需要電動載物臺，僅僅移動手動載物臺上XY旋鈕即可方便而快捷地拼接圖像。奧林巴斯Stream軟件采用圖案識別技術來生成全景圖像，為用戶提供了比單一畫面更廣闊的視野。

一枚硬幣的即時MIA圖像。

EFI：創建超景深圖像

奧林巴斯Stream軟件的景深擴展成像（EFI）功能能夠獲取高度超過物鏡焦深的樣品圖像，把通過不同焦面的圖像疊加在一起，創建出一幅超景深圖像。可以使用手動或電動Z軸機構來執行EFI，并可創建一幅高度圖，以輕松地識別樣品結構。也可以用Stream桌面版在離線時創建EFI圖像。

HDR：同時捕捉高光和暗調區域的細節

高動態范圍（HDR）使用了的圖像處理技術，能夠針對一幅圖像內的亮度差異進行調節，從而減少了眩光。HDR改善了數字圖像的視覺效果，從而為用戶制作報告時提供專業的圖像。

借助HDR功能，同時清晰呈現出高光和暗調區域的細節
（樣品：燃油噴射器）

借助HDR功能，增強了對比度
（樣品：鎂切片）

3D測量

使用外部電動對焦機構時，可以快速獲取EFI圖像，并以3D視圖顯示。獲取的高度數據可用于剖面上的3D測量，或通過單視圖進行3D測量。

容納各類樣品

可以容納更多的樣品類型和尺寸

新型150×100mm載物臺在X方向上提供了比以前的型號更大的行程。再加上其載物臺板的平板式設計，可以輕松地將大樣品，或多個樣品放置在載物臺上。載物臺板上開有小孔，可用于固定樣品架。更大的載物臺為用戶提供了靈活性，使他們能夠在一臺顯微鏡上檢查更多的樣品，從而節省了寶貴的實驗室空間。可調節扭力的載物臺方便了高倍下窄視野的微調定位。

樣品高度和重量的高適應性

BX53MRF-S

使用選配的模塊組件可以將高105mm的樣品放置在載物臺上。由于改進了調焦機構，因此顯微鏡可以容納最重6kg的總重量（樣品+載物臺）。這就意味著BX3M可以檢查更大、更重的樣品，從而減少了實驗室內所需的顯微鏡數量。通過戰略性地將用于6英寸晶圓的旋轉托架放置在偏離中心的位置，在100mm行程范圍內移動時，用戶僅旋轉晶圓托架即可觀察整個晶圓表面。優化了載物臺的扭力調節，以便于使用，舒適的手柄使用戶更易于找到樣品的感興趣區域。

樣品尺寸大小的靈活性

BXFM

如果樣品太大，難以放置在常規顯微鏡載物臺上，則可以把用于反射光顯微鏡觀察的核心光學部件組裝到一個模塊化的系統里。這種模塊化系統，就是BXFM，它可以通過一個支撐桿安裝在更大的支架上，或使用安裝托架安裝在另一臺儀器上。這就使用戶能夠充分利用奧林巴斯優異的光學元件的優勢，即使其樣品在尺寸或形狀上都很好。

兼容ESD：保護電子裝置，防止受到靜電放電的影響

BX3M具有ESD靜電消除能力，防止電子裝置受到由人為或環境因素而導致的靜電的影響。

悠久歷史的光學技術

奧林巴斯公司擁有高品質光學儀器研發的悠久歷史，創造了多項光學質量的記錄，保證了顯微鏡優異的測量精度。

光學性能：波像差控制

使用顯微鏡進行高級研究或系統集成時，所有物鏡的光學性能必須標準化。奧林巴斯的UIS2物鏡提供了波像差控制，大程度減小了會降低分辨率的像差，從而獲得數值孔徑（NA）和工作距離（WD）性能指標。

穩定的色溫和高強度白光LED照明

BX3M為反射光和透射光照明提供了高強度的白光LED光源。無論強度是多少，LED都保持著一致的色溫。LED提供了高效而長壽命的照明，是材料學檢測應用的理想工具。

支持精密測量：自動校準

類似于數碼顯微鏡，使用奧林巴斯Stream軟件時也能夠實施自動校準。自動校準消除了校準過程中的人為變化因素，能夠獲得更可靠的測量結果。自動校準的算法采用多個測量點的平均值來自動計算正確的校準量。這就大程度減小了不同操作者產生的差異，保持了一致的精確性，提高了定期驗證的可靠性。

應用

反射光顯微鏡檢查涵蓋的應用和行業非常廣泛，下面僅選擇了使用不同觀察方法效果的部分示例。

暗場觀察

暗場能夠觀察標本上的散射或衍射光。任何不平整的部位都會反射這種光，而平整的部位則顯得很暗，因此缺陷部位就會清晰地顯示出來。用戶甚至可以識別出極細微的劃痕，或小到8nm級別的缺陷 – 比光學顯微鏡的分辨能力還要小。因此，暗場是檢測標本上細微劃痕或缺陷，以及鏡面標本（包括晶圓）的理想工具。

表面貼裝基板：DF

微分干涉觀察

微分干涉是一種顯微鏡觀察技術，這種技術把明場觀察所不能檢測到的標本高度差，變為浮雕狀或三維圖像，改善了圖像襯度。該技術使用了偏光，并有三種專門定制設計的棱鏡可以選擇。它是檢查具有極細微高度差的標本的理想工具，包括金相組織、礦石、磁頭、硬盤介質和拋光晶圓表面。

球墨鑄鐵檢測：DIC

偏光觀察

這種顯微鏡觀察技術使用了由一套濾色片（檢偏鏡和起偏鏡）產生的偏光。標本的特性直接影響顯微鏡反射光的強度。這種技術適用于金相組織（比如球墨鑄鐵上石墨生長的形態）、礦石、LCD和半導體材料。

絹云母：POL