想象用聲波探測一根細針：如果針遠粗于波長，聲波會形成清晰回聲；但當針細至波長量級，聲波將繞過它繼續傳播，仿佛針不存在一般。這就是衍射現象的核心體現。光作為電磁波，在通過透鏡成像時同樣受限于此。理想點光源經完mei光學系統后，無法匯聚為無限小點，而是形成中心亮斑、外圍明暗環的艾里斑。這個光斑尺寸直接決定了分辨率的極限。物理直覺上，透鏡如同光的“漏斗"，其有限口徑導致波前彌散。

19世紀恩斯特·阿貝將這一規律量化為著名公式：d = λ / (2 NA)其中d為最小分辨距離，λ為波長，NA為數值孔徑。欲提升分辨率，唯有縮短波長或增大NA。然而可見光波長約400-700納米，NA通常不超過1.4，使傳統光學顯微鏡分辨率困于200納米左右，難以窺見病毒或納米結構。

突破之路在于尋找更短波長的探針。1924年德布羅意提出物質波理論，指出粒子如電子具波動性，波長λ與動量p成反比（λ = h/p）。加速至10千伏的電子波長僅約0.012納米，較可見光短數萬倍！此優勢催生了電子顯微鏡（如SEM、TEM）和電子束光刻（EBL）技術。例如，場發射電子槍在15kV下可產生亞2納米束斑，使分辨率突破至納米級。澤攸科技ZEL304G光刻機可實現小于10納米線寬，為量子計算、半導體研發提供關鍵支撐。

盡管電子束表現卓yue，活體觀測等場景仍需可見光的低損傷特性。超分辨率技術通過“智取"突破阿貝假設：

近場光學：利用比波長更小的探針貼近樣品，捕獲高頻倏逝波，實現超分辨成像，雖限于表面且速度較慢。

STED顯微鏡：以環狀損耗光淬滅激發光斑外圍熒光，壓縮發光區域至納米尺度，通過掃描重構超清圖像。

PALM/STORM技術：時分激活稀疏熒光分子，精確定位每個艾里斑中心，疊加成千上萬幀坐標實現超分辨重構。這類“時空解耦"策略榮獲2014年諾貝爾化學獎。

電子束系統雖受衍射影響小，但仍需應對像差、散射等挑戰。現代技術融合超分辨率思維：

像差校正：通過復雜電磁透鏡校正球差、色差，逼近理論衍射極限。

鄰近效應校正（PEC）：預計算電子散射，調整曝光劑量補償圖形失真。澤攸科技EBL系統集成此功能，提升制造精度。

掃描策略優化：如澤攸科技ZEM系列掃描電鏡通過算法降噪、大視場拼接，擴展高分辨視野。

衍射極限是波動性的自然體現，而非不可逾越之墻。從光到電子，波長縮短帶來分辨率飛躍；而從強攻到智取，超分辨率技術展現了人類智慧的靈活性。澤攸科技等企業的工具正是物理原理與工程實踐的結晶，通過場發射電子槍、精準定位臺和智能算法，將納米級操控變為現實。理解這一跨越，無疑是解鎖微觀世界奧秘的關鍵。